Ligne d'anodisation à l'acide sulfurique à composant propre de qualité semi-conducteur pour substrats en aluminium de haute pureté

Cette ligne d'anodisation d'acide sulfurique de type pur entièrement automatique est conçue exclusivement pour des composants en aluminium de haute pureté.Il produit un film d'oxyde clair naturel uniforme de 8 à 15 μm sans contamination par la teinture au sel métalliqueLa ligne prend en charge l'étanchéité à l'eau chaude ou l'étanchéité sans nickel à température moyenne pour répondre aux exigences strictes en matière de propreté des semi-conducteurs et de dégazage.

1. Dégrassage (dégrassage propre à faible teneur en tensioactifs)
2. Rinçage à l'eau pure en plusieurs étapes
3. Traitement léger de la démutation
4. Anodisation à l'acide sulfurique de haute pureté
5. Rinçage en cascade en eau ultra-pure en continu
6. Sécurisation: sécurisation à l'eau chaude / sécurisation sans nickel à température moyenne
7. Rinçage final à l'eau pure
8. Séchage à basse température contrôlé

• Le mode de fonctionnement entièrement automatique assure une épaisseur de film constante de 8 à 15 μm entre les lots
• La teinture au sel métallique est éliminée pour prévenir la pollution ionique qui affecte les performances des semi-conducteurs
• Prend en charge les solutions d'étanchéité sans nickel, conformes aux normes environnementales et de dégazage de l'industrie des semi-conducteurs
• Équipé d'une filtration continue de haute précision et d'un approvisionnement en eau ultra-pure pour maintenir la propreté du bain
• Des cascades de rinçage strictement contrôlées réduisent au minimum les résidus d'acide et le transfert de particules étrangères

• Groupe de réservoirs de prétraitement
• Réservoir d'anodisation d'acide sulfurique de haute pureté
• Système de rinçage en UPW en plusieurs étapes
• Réservoir d'étanchéité (étanchéité à température moyenne à l'eau chaude / sans nickel)
• Rétracteur d'anodisation CC
• Système de filtration de circulation de haute précision
• Un four de séchage à basse température propre
• Unité de traitement des gaz et des eaux usées
• Cran de portique automatique PLC et système de commande central

Les ions métalliques des colorants peuvent rester à l'intérieur du film d'oxyde, ce qui entraîne une migration ionique, une contamination et des risques de fiabilité pour les ensembles de semi-conducteurs.

L'étanchéité sans nickel à température moyenne évite les résidus d'ions nickel.

La configuration principale est entièrement automatique pour la production de masse; un module de nettoyage semi-automatique/manuel peut être fourni en option pour les commandes d'échantillonnage.